Машина для нанесения пленочных покрытий с нижним подогревом

Обзор продукта

Эта машина для нанесения пленочных покрытий с нижним подогревом предназначена для высокотемпературных исследований покрытий, включая керамические пленки, кристаллические пленки, пленки для аккумуляторных материалов и специализированные нанопленки. Интегрированные функции нанесения покрытия, вакуумной фиксации и нижнего подогрева поддерживают контролируемое формирование и сушку пленки в компактной лабораторной системе. Оборудование подходит для исследовательских программ, изучающих перспективные технологии формирования пленок в условиях повышенных температур.

Система сочетает в себе программируемое перемещение при нанесении покрытия с вакуумной алюминиевой пластиной и регулируемым нагревом. Исследователи могут задавать скорость нанесения, расстояние перемещения, температуру нагрева и время сушки через сенсорный интерфейс. Это делает устройство подходящим для подготовки электродов, разработки функциональных пленок, изучения передовых материалов и оценки процессов в лабораторных масштабах.

Прецизионное микрометрическое лезвие, жесткая листовая металлическая конструкция, цифровой контроль температуры и безмасляный вакуумный насос обеспечивают практическую основу для воспроизводимой работы. Оборудование сконфигурировано для лабораторных условий, где контролируемая толщина покрытия, стабильное позиционирование подложки, компактные размеры и простота эксплуатации важны для ежедневной продуктивности исследований.

Ключевые особенности

• Нижний подогрев и сушка: Интегрированная система нагрева вакуумной пластины работает в диапазоне от комнатной температуры до 150°C. Цифровой контроллер температуры обеспечивает точность регулировки ±1°C для создания стабильных условий сушки после нанесения покрытия.

• Микрометрический контроль толщины: Регулируемое лезвие имеет диапазон настройки толщины от 0 до 5 мм и точность контроля толщины покрытия 0,01 мм. Это поддерживает точную подготовку исследовательских пленок и электродных покрытий.

• Регулируемая скорость нанесения: Скорость нанесения покрытия можно регулировать от 0 до 120 мм в секунду. Исследователи могут адаптировать движение при нанесении покрытия к свойствам суспензии, целевой толщине пленки и требованиям процесса разработки.

• Управление через ПЛК и сенсорный экран: Работа на базе ПЛК и интерфейс с сенсорным экраном делают настройку параметров и наблюдение удобными. Ход нанесения покрытия от 0 до 300 мм также можно задать через сенсорный экран.

• Вакуумная фиксация подложки: Вакуумная алюминиевая плоская пластина надежно удерживает подложку во время нанесения покрытия. Быстрое размещение и снятие помогают оптимизировать подготовку образцов и сократить ненужные манипуляции.

• Стандартная ширина покрытия 100 мм: Стандартная ширина устройства для нанесения покрытия составляет 100 мм, что обеспечивает практичный рабочий формат для лабораторных исследований пленок и электродов при сохранении компактных размеров оборудования.

• Компактный дизайн конструкции: Габаритные размеры Д550 мм × Ш350 мм × В320 мм помогают экономить ценное лабораторное пространство. Трехмерная геометрическая конструкция из листового металла обеспечивает аккуратный внешний вид и организованную структуру оборудования.

• Интегрированная система подачи вакуума: В комплект оборудования входит один безмасляный вакуумный насос. Это обеспечивает выделенный источник вакуума для фиксации подложки без необходимости подбора дополнительного насоса для стандартной эксплуатации.

Применение

Технические характеристики

Конфигурация оборудования

Производительность нанесения покрытия и нагрева

Данные о совместимых подложках

Процедура эксплуатации

Последовательность операций разделяет фиксацию подложки, нанесение суспензии и сушку с подогревом на четкие этапы. Такая организация позволяет исследователям подготовить образец, выполнить запрограммированное движение нанесения, а затем применить выбранный режим сушки без необходимости переноса подложки на отдельную нагревательную платформу. Вакуумная пластина остается центральной рабочей поверхностью на протяжении всего процесса, поддерживая стабильную работу с алюминиевой фольгой, медной фольгой и другими исследовательскими подложками в указанных диапазонах размеров.

Регулируемый диапазон скорости нанесения позволяет развивать процессы для различных рецептур суспензий и целей формирования пленок. Более низкие скорости можно выбирать для оценки процесса, где требуется контролируемое осаждение материала, в то время как более высокие скорости поддерживают более быструю подготовку образцов, когда рецептура и целевое состояние покрытия это позволяют. Регулировку лезвия и настройки хода нанесения можно сконфигурировать с сенсорного экрана, что позволяет оператору установить воспроизводимую отправную точку для сравнительных экспериментов.

Функция нижнего подогрева особенно актуальна для исследовательских программ, изучающих сушку и формирование пленок при повышенных температурах. Цифровой контроллер отображает выбранную температуру, а заявленная точность контроля ±1°C поддерживает стабильные термические условия между экспериментами. Поскольку система нагрева интегрирована под вакуумной пластиной, подложка с покрытием может оставаться зафиксированной во время стадии сушки, что уменьшает дополнительные перемещения при подготовке образца.

Физический дизайн также подходит для лабораторий с ограниченным пространством на столе. Габариты Д550 мм × Ш350 мм × В320 мм объединяют механизм нанесения, вакуумную пластину, систему нагрева, элементы управления и входящий в комплект вакуумный насос в компактном формате. Жесткий корпус из листового металла использует трехмерный геометрический дизайн, который обеспечивает аккуратный, организованный внешний вид, защищая внутреннюю структуру оборудования во время повседневного лабораторного использования.

Почему стоит выбрать этот продукт

• Интегрированный исследовательский рабочий процесс: Вакуумная фиксация, программируемое нанесение, регулируемый контроль лезвия и нижний подогрев объединены в одном устройстве, что сокращает перенос между отдельными этапами подготовки.

• Воспроизводимый контроль процесса: Регулируемая скорость нанесения, точность контроля толщины покрытия 0,01 мм, программируемый ход от 0 до 300 мм и точность контроля температуры ±1°C обеспечивают измеримые параметры процесса для сравнительных исследований.

• Стабильность подложки: Вакуумная алюминиевая плоская пластина помогает надежно удерживать электродные листы во время нанесения и сушки, поддерживая стабильную обработку образцов при исследованиях алюминиевой и медной фольги.

• Эффективное использование лабораторного пространства: Компактные габаритные размеры и входящий в комплект безмасляный вакуумный насос упрощают установку там, где важны экономия места на столе и интеграция оборудования.

Для получения ценового предложения или конфигурации покрытия, соответствующей вашим требованиям к исследованию пленок, свяжитесь с нашей технической командой для обсуждения подходящего решения.

Нам доверяют лидеры отрасли