Лабораторная установка для нанесения покрытий
Высокотемпературная установка для нанесения покрытий методом окунания
Артикул : TB27
Цена может варьироваться в зависимости от спецификации и настройки
- Номинальная температура нагрева
- 1000°C
- Диапазон скорости извлечения
- Три независимо настраиваемых этапа, 1-200 мм/мин
- Точность контроля температуры
- +/-1°C
Доставка:
Свяжитесь с нами чтобы получить подробности о доставке. Наслаждайтесь Гарантия своевременной отправки.
Почему выбирают нас
Простой процесс заказа, качественные продукты и специализированная поддержка для успеха вашего бизнеса.
Обзор продукта


Эта высокотемпературная система нанесения покрытий методом окунания предназначена для исследовательских процессов, требующих контролируемого погружения, программируемого извлечения и быстрой термической консолидации жидкофазных пленочных материалов. Подложка закрепляется под тросом для извлечения, опускается в загрузочный бокс для погружения, а затем возвращается через трубчатую печь для нагрева и отверждения пленки. Встроенная печь поддерживает номинальную температуру нагрева 1000°C, что значительно расширяет возможности нанесения покрытий по сравнению с обычным низкотемпературным оборудованием.
Оборудование подходит для исследований роста тонких пленок и нанесения покрытий, включая керамические, кристаллические, пленочные материалы для аккумуляторов и специализированные нанопленки. Установка может использоваться в университетах, научно-исследовательских институтах и промышленных лабораториях, где важны повторяемость движения при нанесении покрытия и заданный температурный профиль. Допускается работа в азоте, аргоне, других безопасных инертных защитных газах или в окислительной атмосфере.
Надежность обеспечивается программным управлением ПЛК, высокоточным шаговым двигателем и подвесной системой передачи, предназначенной для снижения вибрации во время извлечения. Три независимо программируемые зоны скорости позволяют согласовать механическое движение с этапами низкой температуры, высокой температуры и охлаждения. Полученная технологическая платформа дает исследователям практический способ разработки методов высокотемпературного формирования пленок с контролируемым движением, понятным управлением и простотой очистки.
Основные характеристики
-
Среда нагрева с номинальной температурой 1000°C: Встроенная высокотемпературная печь имеет номинальную температуру нагрева 1000°C и максимальную температуру 1100°C. Это позволяет проводить исследования по нанесению и отверждению покрытий для материалов, которые невозможно адекватно обработать в обычных системах, ограниченных температурами ниже 200°C.
-
Три независимо настраиваемые зоны извлечения: Путь движения разделен на фиксированные зоны низкой температуры, высокой температуры и охлаждения. Для каждой зоны можно задать свою скорость извлечения от 1 до 200 мм/мин, что позволяет адаптировать профиль перемещения к требованиям погружения, нагрева и охлаждения.
-
Прецизионный привод с управлением от ПЛК: Программное управление ПЛК и высокоточный шаговый двигатель обеспечивают повторяемость программируемого движения. Система подвесного троса способствует снижению вибрации при вертикальном перемещении, помогая поддерживать стабильную работу с легкими подложками и влажными покрытиями.
-
Контролируемая выдержка для термической обработки: Время выдержки при обжиге регулируется от 1 до 999 с. Это обеспечивает заданный период удержания для отверждения пленки внутри последовательности термического процесса без необходимости ручного отсчета времени каждого цикла оператором.
-
Совместимость с атмосферами: Система может работать с азотом, аргоном и другими безопасными инертными защитными газами, а также в окислительных атмосферах. Эта гибкость поддерживает исследования материалов, требующие выбора определенной атмосферы во время высокотемпературной обработки пленок.
-
Определенные параметры подложки и нагрузки: Оборудование вмещает подложки размером Д75 мм x Ш25 мм x Т1-4 мм и поддерживает максимальную нагрузку при извлечении <=200 г. Эффективная длина погружения 60 мм определяет рабочий диапазон окунания для указанной конфигурации.
-
Точный контроль температуры печи: Интеллектуальный многоступенчатый терморегулятор, термопара K-типа и заявленная точность контроля +/-1°C обеспечивают контролируемую работу печи. Рекомендуемая скорость нагрева составляет 10°C/мин для управляемого температурного градиента.
-
Сенсорный интерфейс, ориентированный на оператора: 4,3-дюймовый цветной сенсорный экран представляет собой простой и понятный интерфейс управления, подходящий для повседневной лабораторной работы. Конструкция поддерживает эффективную настройку параметров для пользователей, разрабатывающих или повторяющих программы нанесения покрытий.
-
Использование высокотемпературного троса: Стандартный трос для извлечения предназначен для рабочих температур до 800°C. Для работы в диапазоне от 800°C до 1000°C требуется специально изготовленный трос или трос, предоставленный заказчиком, что гарантирует выбор механического компонента в соответствии с предполагаемой термической нагрузкой.
Применение
| Применение | Описание | Ключевое преимущество |
|---|---|---|
| Разработка керамических тонких пленок | Погружение керамических подложек в жидкофазный материал покрытия с последующим извлечением через зону контролируемого нагрева для консолидации пленки. | Поддерживает условия высокотемпературной обработки, важные для исследований керамических пленок. |
| Исследования кристаллических пленок | Обеспечивает программируемое извлечение подложки и обработку в печи для изучения тонких пленок на основе кристаллов. | Независимо контролируемые зоны перемещения поддерживают повторяемость термического воздействия во время циклов нанесения. |
| Исследования пленочных материалов для аккумуляторов | Обработка пленок аккумуляторных материалов, где контролируемое окунание и отверждение при повышенной температуре являются частью лабораторной разработки. | Объединяет движение при нанесении покрытия и обработку в печи в единый рабочий процесс. |
| Подготовка специализированных нанопленок | Поддерживает исследования, связанные со специализированными нанопленками, сформированными из жидкофазных материалов. | Регулируемые настройки скорости и времени выдержки позволяют контролируемо исследовать переменные процесса. |
| Эксперименты с нанесением в инертной атмосфере | Проведение исследований по нанесению и нагреву в среде азота, аргона или других безопасных инертных защитных газов. | Позволяет исследователям выбирать защитную атмосферу, соответствующую их экспериментальному процессу. |
| Термическая обработка в окислительной атмосфере | Поддерживает рабочие процессы нанесения методом окунания, требующие использования в окислительной атмосфере. | Предоставляет гибкую платформу для сравнения поведения пленок в зависимости от атмосферы. |
| Материаловедческие исследования в университетах и институтах | Обслуживает лабораторные программы по изучению будущих технологий высокотемпературного формирования пленок. | Простое сенсорное управление и удобство очистки способствуют частому экспериментальному использованию. |
Технические характеристики
| Параметр | Спецификация |
|---|---|
| Артикул изделия | TB27 |
| Наименование изделия | Высокотемпературная установка для нанесения покрытий методом окунания |
| Модель изделия | TB27 |
| Электропитание | Однофазное AC220В 50/60Гц, две розетки национального стандарта 10А |
| Требование к заземлению | Требуется надежное заземление |
| Требование к защите на входе | Требуется воздушный автоматический выключатель 16А |
| Температура в рабочем помещении | 25°C +/-15°C |
| Влажность в рабочем помещении | 55%Rh +/-10%Rh |
| Рабочее напряжение основного блока извлечения | DC24В 3,75А; стандартный адаптер питания AC100-240В |
| Номинальная мощность основного блока извлечения | 50 Вт |
| Тип | Программируемый высокотемпературный тип с высокотемпературной печью |
| Приводной двигатель | Высокоточный шаговый двигатель |
| Диапазон настройки скорости | Трехэтапная работа; каждый этап настраивается независимо; 1-200 мм/мин |
| Время выдержки при обжиге | 1-999 с |
| Общий ход | Зона низкой температуры + зона высокой температуры + зона охлаждения = 620 мм |
| Ход первого этапа (зона низкой температуры) | 236 мм, не регулируется |
| Ход второго этапа (зона высокой температуры) | 150 мм, не регулируется |
| Ход третьего этапа (зона охлаждения) | 234 мм, не регулируется |
| Эффективная длина погружения | 60 мм |
| Максимальная нагрузка при извлечении | <=200 г |
| Размер подложки | Д75 мм x Ш25 мм x Т1-4 мм |
| Дисплей и управление | 4,3-дюймовый цветной сенсорный экран |
| Габаритные размеры | Ширина 560 мм x глубина 470 мм x высота 1550 мм |
| Общий вес | Около 50 кг, включая высокотемпературную печь |
| Рабочее напряжение высокотемпературной печи | Однофазное AC220В 50/60Гц |
| Номинальная мощность высокотемпературной печи | 1,5 кВт |
| Максимальная температура нагрева | 1100°C |
| Номинальная температура нагрева | 1000°C |
| Диапазон рабочих температур со стандартным тросом | От комнатной температуры до +800°C |
| Условия эксплуатации стандартного троса | Подходит для температур <=800°C |
| Требование к тросу выше 800°C | Для работы в диапазоне 800°C-1000°C требуется специальный заказ или трос от заказчика |
| Рекомендуемая скорость нагрева | 10°C/мин |
| Точность контроля температуры | +/-1°C |
| Метод контроля и настройки температуры | Интеллектуальный терморегулятор, многоступенчатый контроллер |
| Термопара | K-тип |
| Размеры камеры печи | Phi80 мм x 330 мм |
| Спецификация трубки печи | Внешний диаметр Phi50 мм x внутренний диаметр Phi45 мм x длина 600 мм |
| Вход адаптера питания | AC100-240В 50/60Гц |
| Выход адаптера питания | DC-24В 3,75А |
| Справочное значение питания оборудования | Превалируют данные на заводской табличке на задней панели |
| Опциональное питание печи | Настраиваемое однофазное AC110В 50/60Гц |
Указанная геометрия хода создает четкую последовательность прохождения через зону низкой температуры, зону высокой температуры и зону охлаждения. Поскольку индивидуальные расстояния перемещения фиксированы, исследователи могут сосредоточить разработку процесса на независимо регулируемых настройках скорости, времени выдержки при обжиге, программе температуры печи и выбранной атмосфере. Это обеспечивает четкую основу для регистрации и повторения экспериментальных условий в ходе испытаний покрытий.
Размеры трубки печи и камеры должны быть проверены в соответствии с предполагаемым креплением подложки и экспериментальной установкой перед закупкой. Указанный размер подложки, длина погружения и предел нагрузки при извлечении описывают стандартный рабочий диапазон. Для применений, требующих работы при температуре выше 800°C, расположение троса для извлечения должно быть подтверждено при составлении спецификации, так как стандартный трос предназначен для использования до 800°C.
Почему стоит выбрать этот продукт
-
Специализированные возможности для высоких температур: Система сочетает программируемое извлечение методом окунания с обработкой в печи при номинальной температуре 1000°C, предоставляя специализированную платформу для исследований роста пленок, требующих повышенных термических условий.
-
Повторяемость механического управления процессом: Управление ПЛК, высокоточный шаговый двигатель, подвесная система передачи, три регулируемых этапа скорости и настраиваемое время выдержки поддерживают стабильное движение в каждом цикле.
-
Гибкость процесса без лишней сложности: Работа в инертной или окислительной атмосфере, многоступенчатый контроль температуры и 4,3-дюймовый сенсорный экран позволяют лабораториям напрямую настраивать основные условия для своего рабочего процесса разработки материалов.
-
Определенные инженерные ограничения для надежной спецификации: Четкие ограничения по размерам подложки, эффективной длине погружения, нагрузке, фиксированным зонам хода, размерам печи и требованиям к высокотемпературному тросу помогают отделам закупок оценить соответствие перед установкой.
-
Готовность к перспективным исследованиям формирования пленок: Конструкция предназначена для решения будущих задач в области высокотемпературных технологий формирования пленок, оставаясь при этом подходящей для повседневной работы в академических, институциональных и промышленных лабораториях.
Свяжитесь с нами для получения коммерческого предложения или индивидуального решения, включая подтверждение требований к высокотемпературному тросу и печи AC110В для вашего процесса.
Нам доверяют лидеры отрасли
Техническая спецификация продукта
Высокотемпературная установка для нанесения покрытий методом окунания
Каталог категорий
Лабораторная Установка Для Нанесения Покрытий
ЗАПРОС ЦИТАТЫ
Наша профессиональная команда ответит вам в течение одного рабочего дня. Пожалуйста, не стесняйтесь обращаться к нам!
Связанные товары
Установка для нанесения покрытий методом погружения с программным управлением ПЛК для программируемого осаждения тонких пленок
Установка для нанесения покрытий методом погружения с управлением от ПЛК, скоростью 1–200 мм/мин, программируемыми параметрами погружения, сушки и циклов, компактной конструкцией, сертификацией CE и опциональной сушкой при постоянной температуре для точного лабораторного формирования тонких пленок в исследовательских и промышленных приложениях с надежным повторяемым управлением процессом и простотой эксплуатации
Машина для нанесения пленочных покрытий с нижним подогревом
Машина для нанесения пленочных покрытий с нижним подогревом для керамических кристаллических аккумуляторов и нанопленок с регулируемой скоростью нанесения, точным контролем толщины, вакуумной фиксацией и нагревательной сушкой от комнатной температуры до 150°C для надежных лабораторных исследований и обработки материалов с воспроизводимыми результатами.
Компактная лабораторная установка непрерывного нанесения покрытий для точного создания влажных пленок
Компактная лабораторная установка непрерывного нанесения покрытий для точного создания влажных пленок обеспечивает воспроизводимое нанесение покрытий на бумагу и пленки с регулируемой скоростью и рабочей шириной 30 см, что позволяет проводить надежные лабораторные испытания и разрабатывать процессы нанесения покрытий на различных подложках.
Малогабаритная лабораторная автоматическая установка для нанесения и сушки пленочных покрытий
Малогабаритная лабораторная автоматическая установка для нанесения и сушки пленочных покрытий с регулируемой скоростью нанесения, прецизионным контролем толщины, вакуумной фиксацией подложки и нагревом до 130°C. Предназначена для исследований аккумуляторов, керамики, кристаллов и нанопленок в перчаточных боксах и лабораториях передовых материалов для обеспечения стабильного высокотемпературного формирования пленок.
Автоматическая машина для нанесения и сушки пленочных покрытий
Автоматическая машина для нанесения и сушки покрытий для аккумуляторных электродов и передовых материалов, оснащенная вакуумной фиксацией, регулируемой скоростью нанесения, прецизионным контролем толщины и равномерным нагревом для надежных лабораторных исследований, воспроизводимых процессов подготовки тонких пленок при высоких температурах и контролируемой разработки.
Настраиваемая лабораторная настольная экструзионная машина для нанесения покрытий на плоские пластины
Настраиваемая лабораторная настольная экструзионная машина для нанесения покрытий на электроды литиевых аккумуляторов, солнечные пленки, слои проводящих полимеров, OLED-подложки; обеспечивает точный контроль толщины, равномерный нагрев и совместимость с перчаточными боксами для исследовательских целей.
Автоматическая машина для нанесения и сушки покрытий, лабораторная установка для литиевых аккумуляторов
Автоматическая машина для нанесения и сушки покрытий и лабораторная установка для литиевых аккумуляторов с нагревом до 130°C, регулируемой скоростью нанесения, вакуумной плитой, прецизионным скребком и программируемым таймером сушки для исследований электродов 18650, обеспечивающая гладкие и воспроизводимые покрытия на различных подложках, компактное решение для настольных разработок.
Автоматическая высокотемпературная нагретая гидравлическая пресс-машина с нагретыми плитами для лаборатории
Высокотемпературный горячий пресс KINTEK: Прецизионное спекание и обработка материалов для лабораторий. Достижение экстремальных температур и стабильных результатов. Возможны индивидуальные решения.
Настольная установка для испытаний непрерывного нанесения покрытий на цилиндрические аккумуляторы 18650
Настольная установка непрерывного нанесения покрытий для исследования электродов литиевых аккумуляторов, цилиндрических элементов 18650, керамических пленок, кристаллических пленок и нанопленок, с регулируемой шириной нанесения, точным контролем толщины, автоматической намоткой и независимым регулированием температуры печи с помощью ПИД-контроллера, предназначенная для университетских лабораторий и мелкосерийного производства
Настольная плоская машина для нанесения покрытий методом щелевой экструзии для аккумуляторных лабораторий
Высокоточная настольная машина для нанесения покрытий методом щелевой экструзии на плоские пластины и лабораторная машина для нанесения покрытий на аккумуляторные электроды обеспечивает равномерные пленки, подачу материала через герметичный шприц, вакуумную фиксацию, регулируемую скорость, контролируемый нагрев и воспроизводимое нанесение покрытий для передовых исследований литий-ионных аккумуляторов, солнечных, полимерных и OLED-материалов.
Автоматический настольный термопресс сверхвысокой температуры 500°C, усилие 5 тонн, плиты 180x180 мм
Изучите автоматический настольный термопресс сверхвысокой температуры 500°C с усилием 5 тонн, плитами 180x180 мм и полностью автоматическим гидравлическим управлением с интегрированным водяным охлаждением. Идеально подходит для исследований полимеров, композитов, аккумуляторов и передовых материалов, обеспечивая точные и стабильные результаты термообработки.
Автоматический горячий пресс сверхвысокой температуры с усилием 40 тонн и плитами 300x300 мм
Разработанный для экстремальных лабораторных условий, этот автоматический горячий пресс сверхвысокой температуры обеспечивает точный нагрев до 500°C, программируемое усилие 40 тонн и две независимые плиты размером 300x300 мм, дополненные системой активного водяного охлаждения CW5200 для обеспечения безопасной и долговечной работы при передовых исследованиях материалов.
Автоматический горячий пресс сверхвысокой температуры 500°C, усилие 5 тонн, плиты 180x180 мм, настольное исполнение
Компактный автоматический горячий пресс KINTEK обеспечивает сверхвысокую температуру 500°C, усилие 5 тонн и точные нагреваемые плиты 180x180 мм — идеально для передовых исследований полимеров, керамики и аккумуляторов. Настольный дизайн с водяным охлаждением и PID-управлением гарантирует безопасные и воспроизводимые результаты. Получите коммерческое предложение.
Автоматический лабораторный горячий пресс 90 тонн с плитами 300x300 мм, точность давления 2%, температура 200 °C
Откройте для себя автоматический лабораторный горячий пресс высокого давления с усилием 90 тонн и нагреваемыми плитами 300x300 мм, обеспечивающий точность давления 0,2% и ПИД-регулирование температуры до 200°C. Идеально подходит для производства электродов батарей, формования высокопроизводительных полимеров, упаковки полупроводников и отверждения композитов. Запросите коммерческое предложение сегодня.
Лабораторный аппликатор с двойным режимом нанесения (щелевая экструзия и ракельный нож) для исследований пленочных материалов аккумуляторов
Высокоточный лабораторный аппликатор с двойным режимом нанесения (щелевая экструзия и ракельный нож), изготовленный из нержавеющей стали SUS630. Обеспечивает регулировку с помощью цифрового микрометра с шагом 1 мкм и прямолинейность кромок менее 4 мкм для исследований литиевых аккумуляторов, OLED-дисплеев и функциональных тонких пленок.
Вакуумный смеситель с электрическим нагревом и поддержанием постоянной температуры
Вакуумный смеситель с электрическим нагревом и поддержанием постоянной температуры для обработки вязких суспензий без пузырьков, с регулируемой скоростью, точным нагревом, прозрачным вакуумным сосудом и надежными эксплуатационными характеристиками для лабораторных исследований в фармацевтике, производстве клеев, парфюмерии, косметике, покрытий, пигментов, добавок, электроники и материалов для новой энергетики
Электрический вакуумный смеситель с постоянной температурой нагрева
Электрический вакуумный смеситель с постоянной температурой нагрева для обработки вязких материалов без пузырьков воздуха, с регулируемым вакуумом, точным нагревом, переменной скоростью вращения и прозрачной емкостью для визуального контроля
Автоматический горячий пресс большой тоннажности с усилием зажима 100 тонн, давлением 10,9 МПа и 7-дюймовым сенсорным экраном для ПИД-регулирования температуры и давления
Ознакомьтесь с автоматическим горячим прессом большой тоннажности — надежным решением для обработки современных материалов с усилием 100 тонн и максимальным давлением 10,9 МПа, оснащенным 7-дюймовым сенсорным экраном и двухконтурным ПИД-управлением температурой и давлением. Подходит для формования керамики, полимеров и композитных материалов.
Автоматический высокотемпературный пресс высокого давления 90 тонн, плиты 300x300 мм, точность давления 0,2%, температура до 200°C
Откройте для себя автоматический высокотемпературный пресс высокого давления, развивающий усилие 90 тонн на плитах 300×300 мм с точностью давления 0,2% и точным ПИД-регулированием температуры до 200°C, идеальный для исследований в области аккумуляторов, упаковки полупроводников, формования полимеров и уплотнения композитов.
Автоматический гидравлический термопресс с нагревательными плитами для лаборатории
Автоматический лабораторный термопресс KINTEK: прецизионный нагрев, программируемое управление и быстрое охлаждение для эффективной подготовки проб. Повысьте производительность лаборатории уже сегодня!